Título:
Modelo del voltaje de descarga en depósitos de ZrOX por erosión iónica reactiva
Autores: García-Gradilla, V.
Soto-Herrera, G.
Machorro-Mejía, R.
Mitrani-Abenchuchan, E.
Fecha: 2010-01-29
Publicador: Revistas UNAM
Fuente:
Tipo:

Tema: DC reactive sputtering; discharge voltage; thin film
Erosión iónica reactiva; voltaje de descarga; películas delgadas; modelo
Descripción: A Berg model application for ZrOX thin film deposition by DC reactive sputtering is presented. An alternative treatment to this model is proposed, focused on an engineering point of view. Berg model involves target poisoning as a compound covering a fraction of the target surface, pressure, input flow and pumping speed. In the alternative treatment presented, all these quantities –some hard to be measuredare condensed by considering variations in the target voltage and plasma impedance, that together comprises the discharge voltage. The advantage of this handling is that can be easily used by a field engineer, without necessity of advanced knowledge in material science.
Se presenta una aplicación del modelo de Berg para el depósito de películas delgadas de ZrOX por la técnica de erosión iónica reactiva. Se propone un tratamiento alternativo de dicho modelo, adaptándolo a un punto de vista ingenieril. El modelo de Berg en su forma original considera el envenenamiento del blanco como una fracción de cobertura de la superficie del blanco, la presión de depósito, los flujos de entrada y la velocidad de bombeo. En el tratamiento alternativo que aquí se ejemplifica, todas estas cantidades - difíciles de medir en la práctica - se reducen a considerar solamente variaciones en la caída de voltaje en el blanco y la impedancia del plasma, que juntos conforman el voltaje de descarga. La ventaja de este tratamiento es que puede ser usado fácilmente por un ingeniero de campo, sin conocimientos en ciencias de materiales, para controlar las propiedades de la película a depositar.
Idioma: Español

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