| Título: |
Resistencia a la corrosión y microestructura de recubrimientos de NbxSiyNz depositadas con el sistema UBM The corrosion resistance and microstructure of UBM system-deposited NbxSiyNz thin films |
| Autores: |
Velasco Estrada Leonardo ; Universidad Nacional de Colombia Olaya Florez Jhon Jairo ; Universidad Nacional de Colombia Rodríguez Baracaldo Rodolfo ; Universidad Nacional de Colombia |
| Fecha: | 2012-12-13 |
| Publicador: | Ingeniería e investigación |
| Fuente: |
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| Tipo: |
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| Tema: |
Mechanical Engineering; Material engineering Corrosion; diffraction; spectroscopy; fluorescence; microstructure; microscopy; race track; x ray; thin film; sputtering; polarisation Corrosión; Difracción; Espectroscopia; Fluorescencia; Microestructura; Microscopia; race track; Rayos X; Recubrimientos; Sputtering; Polarización |
| Descripción: |
En este trabajo se produjeron recubrimientos nanoestructurados de NbxSiyNz sobre acero inoxidable AISI 304 mediante la técnica del UBM (unbalanced magnetrón - sputtering con magnetrón desbalanceado), variando el contenido de Si, y se evaluó su resistencia frente al fenómeno corrosivo por medio de la técnica de polarización potenciodinámica en una solución al 3% de NaCl. La microestructura de los recubrimientos se analizó por medio de XRD (X ray diffraction - difracción de rayos X), SEM (scanning electron microscopy - microscopia electrónica de barrido) y microscopia láser confocal. La composición química se identificó con la técnica XRF (X ray fluorescence - fluorescencia de rayos X). Como resultado las tasas de depósito se incrementaron con la adición de Si, además se observó un cambio en la microestructura para contenidos superiores a 5% de Si, mediante la transición de un recubrimiento cristalino a amorfo. Finalmente, los resultados de corrosión sugieren que los recubrimientos con un alto contenido de silicio tienen un mejor comportamiento frente a la corrosión del sistema. NbxSiyNz thin film nanostructure was grown using the unbalanced magnetron sputtering (UBM) technique with varying Si content. Corrosion resistance was evaluated by potentiodynamic polarisation technique in a 3% NaCl solution. Microstructure was analysed by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and laser scanning microscopy. Chemical composition was ascertained by X-ray fluorescence (XRF) technique. The results showed that deposition rates increased with higher Si content. A microstructural change was observed for greater than 5% Si content through the transition from a crystalline to an amorphous structure in the thin films. Corrosion test results demonstrated that the thin films having the highest silicon content had better corrosion resistance. |
| Idioma: | Inglés |